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本页面的内容：
Required 模块
Spawn 模块
创建新发射器时将包含以下类和模块。它们始终存在，无法被删除。
Required 模块
每个粒子发射器均包含此模块。该模块包含粒子发射器必需的所有属性。它包含以下属性：
属性
描述
Emitter
Material应用至粒子的材质。Emitter Origin3D 空间中发射器发射粒子的点（除非被其他模块单独指定）。Emitter Rotation应用至发射器本身的局部旋转。Screen Alignment粒子和摄像机之间的朝向关系。允许下列模式：
标记
描述
FacingCameraPosition粒子将旋转朝向摄像机位置，但无视摄像机旋转。Square等分缩放（强制为 X 设置），面对摄像机。Rectangle非等分缩放，面对摄像机。Velocity将粒子方向确定为正对摄像机和粒子移动的方向。允许非等分缩放。TypeSpecific使用类型数据模块中指出的对齐方法。（仅用于网格体）Use Local Space确定粒子发射器是否应用其父项的世界变换 (false) 或 (true)。如为 true，粒子发射器将在局部空间中执行所有操作。Kill On Deactivate确定粒子发射器停用是否会导致粒子被全部销毁。如为 false，发射器停用后存活的粒子仍将完成其生命周期。Kill On Completed确定粒子系统组件是否会在该发射器实例完成后将其销毁。Sort mode该发射器使用的分类模式。
模式
描述
PSORTMODE_None不执行排序。PSORTMODE_ViewProjDepth按基于视图投影的深度对粒子进行排序。PSORTMODE_DistanceToView按全局空间中粒子到摄像机的位置对粒子进行排序。PSORTMODE_Age_OldestFirst按年龄对粒子进行排序，优先绘制年龄较大的粒子。PSORTMODE_Age_NewestFirst按年龄对粒子进行排序，优先绘制年龄较小的粒子。Use Legacy Emitter Time如为 true，由 EmitterDuration 调制 SecondsSinceCreation，从而计算发射器的 EmitterTime。因其可能会导致循环和变量市场的问题，新方法已应用。如为 false，将利用新方法，EmitterTime 将由每个标记的 DeltaTime 增加。它在发射器循环中利用当前的 EmitterDuration 调整 EmitterTime，实现恰当的循环/延迟行为。Orbit Module Affects Velocity Alignment如为 true，orbit 模块产生的运动将被应用至速度一致的粒子上。
Duration
Emitter Duration确定发射器在循环前播放的时长（以秒为单位）。如设为 0，发射器将不会进行循环。Emitter Duration Low为发射器时长设定下限，以获得发射器市场的可变性。Emitter Duration Use Range如为 true，发射器将从启动时 EmitterDurationLow 到 EmitterDuration 的范围中选择一个时长。Duration Recalc Each Loop如为 true，发射器将在循环时 EmitterDurationLow 到 EmitterDuration 的范围中选择一个新的时长。Emitter Loops进入不活动状态前的循环次数。如设为 0，发射器将持续运行，“永远”循环。
Delay
Emitter Delay启动发射器的时间延迟量。将使单个粒子系统中存在多个“令人惊艳的”发射器。应用范围时，它还可作为所选随机延迟值的上限。Emitter Delay Low应用范围时，它还可作为所选随机延迟值的下限。Emitter Delay Use Range如为 true，发射器的有效延迟值将在 [Emitter Delay Low, Emitter Delay] 的范围中随机选择。Delay First Loop Only如为 true，EmitterDelay 数值大于 0 且 EmitterLoops 数值大于 1 的发射器只在第一次循环时执行延迟。
Sub UV
Sub UV 数据表明发射器应该使用所应用贴图的子图像。此功能在粒子上添加简单动画时十分实用。
Interpolation Method此列举说明在子图像之间进行插值的方法。其可为下列之一：
方法
描述
None不在此发射器上应用 SubUV 模块。Linear按指定顺序在子图像之间顺畅过度，当前子图像和下一子图像之间不存在混合。Linear_Blend按指定顺序在子图像之间顺畅过度，当前子图像和下一子图像之间存在混合。Random随机选取下一图像，当前图像和下一图像之间不存在混合。Random_Blend随机选取下一图像，当前图像和下一图像之间存在混合。Sub Images_Horizontal贴图水平（X）轴方向的贴图子图像数量。Sub Images_Vertical贴图垂直（Y）轴方向的贴图子图像数量。Scale UV说明应该对 UV 值进行调整，以“适合”子图像的尺寸。这仅用于网格体发射器。Random Image ChangesInterpolationMethod 设为 Random 时粒子生命周期中改变图像的次数。
Macro UV
Macro UV 部分说明发射器应该使用 macro UV。它使单张图片连续被映射到多个粒子上，而并非单独映射到单个粒子上。需注意，如需使用该功能，应用至粒子的材质必须使用 ParticleMacroUV 材质表现节点。
Override System Macro UV如为 true，此处的设置将重叠系统 Macro UV 材质设置，在级联的发射器列表中取消所有发射器和模块的选择即可看到。Macro UVPosition所有 Macro UV 计算开始的局部空间位置。Macro UVRadius世界场景半径，超过此半径 Macro UV 材质将开始倾斜。
Rendering
Use Max Draw Count如为 true，发射器将不会绘制数量超过 MaxDrawCount 的粒子。标记时所有粒子仍将被更新。Max Draw Count限制渲染的粒子数量。UV Flipping Mode以多种方式进行 Sprite 和 GPU particles UV 的翻动。
模式
描述
None不发生 UV 翻页。为默认状态。FlipUV翻动 U 和 V 纹理坐标。U Only只翻动 U 纹理坐标。V Only只翻动 V 纹理坐标。Random Flip UV在生成时随机一同翻动 U 和 V。Random Flip UV在生成时随机翻动 U。Random Flip UV在生成时随机翻动 V。Random Flip UV Independent在生成时随机单独翻动 U 和 V。
Normals
Emitter Normals Mode该模式用于生成此发射器 LOD 的法线。
模式
描述
ENM_CameraFacing默认模式，法线基于摄像机面对的几何体。ENM_Spherical法线从以 NormalsSphereCenter 为中心的球体产生。ENM_Cylindrical法线从一个穿过 NormalsSphereCenter，方向为 NormalsCylinderDirection 的圆柱体产生。Normals Sphere Center当 Emitter Normals Mode 为 ENM_Spherical 时，粒子法线创建后将背对 Normals Sphere Center。该值位于局部空间中。Normals Cylinder DirectionEmitter Normals Mode 为 ENM_Cylindrical 时，粒子法线创建后将背对在 Normals Cylinder Direction 方向穿过 Normals Sphere Center 的圆柱。该值位于局部空间中。Spawn 模块
每个粒子发射器均包含此模块。该模块包含确定粒子生成方式的所有属性。它包含以下属性：
属性
描述
Spawn
Rate该浮点 distribution 确定在固定时间发射器的粒子生成率（每秒粒子数量）。Rate Scale应用至发射器 Rate 的缩放因子。Process Spawn Rate如为 true，Rate 将被处理。如多个 Spawn 模块“叠列”在一个发射器中且其中一个模块禁用了此属性，将不对发射器的 Rates 进行处理。
Burst
Burst 数据表明发射器应在指定时间强制释放特定数量的粒子。它包含以下属性：ParticleBurstMethod在数据串中喷发粒子的方法。当前无视。BurstList整数 Count 和 CountLow 阵列，以及识别所需粒子喷发的浮点 Time 值。Time 在发射器生命周期的 [0..1] 范围中。如 CountLow 被设为 -1，发射器将在指定时间喷射 Count 粒子。另外，发射器在指定时间内将在 [CountLow..Count] 范围内喷射随机数量的粒子。Process Burst list如为 true，Burst List 将被处理。如多个 Spawn 模块“叠列”在一个发射器中且其中一个模块禁用了此属性，将不对发射器的 Burst Lists 进行处理。Burst Scale按此量对所有喷射输入进行调整。 |
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发表于 2016-6-25 13:32:22
发表于 2016-7-2 18:42:58
